SiO₂ Quartz Wafers 2″ 3″ 4″ 6″ 8″ 12″ pour MEMS, Semiconductor & Optical Applications

Les plaquettes de quartz SiO₂ sont des substrats de très haute pureté largement utilisés dans le traitement des semi-conducteurs, la fabrication de MEMS, les dispositifs RF et les systèmes optiques. Disponibles dans des diamètres standard de 2″ à 12″, ces plaquettes sont conçues pour des applications nécessitant une stabilité thermique, une transparence optique et une résistance chimique élevées.Produites à partir de silice fondue de haute pureté, les plaquettes de quartz présentent une structure amorphe uniforme, garantissant des performances constantes sans joints de grains internes.

Les plaquettes de quartz SiO₂ sont des substrats de très haute pureté largement utilisés dans le traitement des semi-conducteurs, la fabrication de MEMS, les dispositifs RF et les systèmes optiques. Disponibles dans des diamètres standard de 2″ à 12″, ces plaquettes sont conçues pour des applications nécessitant une stabilité thermique, une transparence optique et une résistance chimique élevées.

Fabriquées à partir de silice fondue de haute pureté, les plaquettes de quartz présentent une structure amorphe uniforme, garantissant des performances constantes sans joints de grains internes. Associées à un polissage de précision et à un contrôle étroit de l'épaisseur, elles offrent une excellente qualité de surface pour les processus de fabrication avancés.


Caractéristiques principales

  • Très haute pureté (≥99.99% SiO₂) pour les environnements sensibles à la contamination
  • Large gamme de températures de fonctionnement (stable jusqu'à >1100°C)
  • Transmission optique élevée de l'UV au proche infrarouge
  • Faible coefficient de dilatation thermique pour la stabilité dimensionnelle
  • Excellente résistance chimique aux acides, aux alcalis et aux solvants
  • Finition de surface ultra-lisse (Ra ≤ 1 nm) adaptée à l'optique de précision et aux MEMS.

Caractéristiques des matériaux

 

Les plaquettes de quartz sont basées sur SiO₂ amorphe fondu, offrant :

  • Structure isotrope avec un comportement optique cohérent
  • Pas d'effets de biréfringence communs aux matériaux cristallins
  • Haute résistance aux chocs thermiques et à l'exposition au plasma
  • Faible dégazage, convient aux environnements sous vide

Par rapport au verre classique, les plaquettes de quartz offrent une plus grande pureté, une meilleure durabilité thermique et une transmission optique plus large, ce qui en fait un matériau privilégié dans les industries des semi-conducteurs et de la photonique.


Spécifications

Spec Unité 4″ 6″ 8″ 10″ 12″
Diamètre / Taille mm 100 150 200 250 300
Tolérance (±) mm 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
Épaisseur mm ≥0.10 ≥0.30 ≥0.40 ≥0.50 ≥0.50
Référence primaire plate mm 32.5 57.5 Semi-notch Semi-notch Semi-notch
LTV (5×5 mm) μm <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5
TTV μm <2 <3 <3 <5 <5
Arc μm ±20 ±30 ±40 ±40 ±40
Distorsion μm ≤30 ≤40 ≤50 ≤50 ≤50
PLTV (5×5 mm) % ≥95 ≥95 ≥95 ≥95 ≥95
Arrondi des bords mm Conforme aux normes SEMI M1.2 / IEC62276
Type de surface SSP / DSP
Ra poli sur le côté nm ≤1 ≤1 ≤1 ≤1 ≤1
Critères relatifs à la face arrière μm 0,2-0,7 ou sur mesure

Applications

Traitement des semi-conducteurs

Les plaquettes de quartz sont largement utilisées comme plaquettes porteuses et composants de processus dans des environnements à haute température tels que la diffusion, le dépôt et la gravure. Leur stabilité thermique garantit des performances constantes lors d'opérations répétées à haute température.

cycles dermiques.

MEMS et capteurs

Dans la fabrication des MEMS, les plaquettes de quartz constituent des substrats stables pour les microstructures et les capteurs fonctionnant en mode automatique.

g dans des conditions de contraintes mécaniques et thermiques.

Optique et photonique

Avec une excellente transmission UV et IR, les plaquettes de quartz sont idéales pour.. :

  • Fenêtres optiques
  • Composants laser
  • Supports d'enduction
  • Éléments optiques de précision

Utilisation industrielle et en laboratoire

Les plaquettes de quartz sont également utilisées :

  • Chambres à plasma et systèmes à vide
  • Analyse chimique et biomédicale
  • Porte-échantillons à haute température

Processus de fabrication

Les plaquettes de quartz sont produites selon un processus contrôlé afin d'en garantir la pureté et la précision :

  1. Sélection de matières premières SiO₂ de haute pureté
  2. Fusion à environ 2000°C
  3. Refroidissement contrôlé pour former des blocs de quartz solides
  4. Tranchage de précision à l'aide de scies à fil
  5. Rodage et polissage (simple ou double face)
  6. Nettoyage et inspection en salle blanche

Options de personnalisation

Nous offrons une personnalisation flexible basée sur les exigences de l'application :

  • Diamètre : 2″-12″ (tailles personnalisées disponibles)
  • Épaisseur : 0,1-6 mm
  • Finition de la surface : SSP / DSP
  • Type d'arête : Entaille / Plat / Arrondi
  • Traitement supplémentaire :
    • Perçage au laser
    • Patterning
    • Revêtements optiques

FAQ

Qu'est-ce qu'une plaquette de quartz ?
Une plaquette de quartz est un substrat SiO₂ de haute pureté utilisé dans les applications semi-conductrices, MEMS et optiques nécessitant une stabilité thermique et une résistance chimique.

Les plaquettes de quartz peuvent-elles résister à des températures élevées ?
Oui, ils peuvent fonctionner en continu à des températures supérieures à 1000°C sans déformation.

Qu'est-ce qui rend le quartz meilleur que le verre standard ?
Le quartz offre une plus grande pureté, une résistance thermique supérieure et une meilleure transmission optique, ce qui le rend adapté aux applications industrielles de pointe.

Avis

Il n’y a pas encore d’avis.

Soyez le premier à laisser votre avis sur “SiO₂ Quartz Wafers 2″ 3″ 4″ 6″ 8″ 12″ for MEMS, Semiconductor & Optical Applications”

Votre adresse e-mail ne sera pas publiée. Les champs obligatoires sont indiqués avec *

Panier
Retour en haut