Obleas de cuarzo SiO₂ 2″ 3″ 4″ 6″ 8″ 12″ para MEMS, semiconductores y aplicaciones ópticas

Las obleas de cuarzo SiO₂ son sustratos de pureza ultra alta ampliamente utilizados en el procesamiento de semiconductores, la fabricación de MEMS, los dispositivos de RF y los sistemas ópticos. Disponibles en diámetros estándar de 2″ a 12″, estas obleas están diseñadas para aplicaciones que requieren una gran estabilidad térmica, transparencia óptica y resistencia química.Producidas a partir de sílice fundida de gran pureza, las obleas de cuarzo presentan una estructura amorfa uniforme, lo que garantiza un rendimiento constante sin límites de grano internos.

Las obleas de cuarzo SiO₂ son sustratos de pureza ultra alta ampliamente utilizados en el procesamiento de semiconductores, la fabricación de MEMS, los dispositivos de RF y los sistemas ópticos. Disponibles en diámetros estándar de 2″ a 12″, estas obleas están diseñadas para aplicaciones que requieren alta estabilidad térmica, transparencia óptica y resistencia química.

Fabricadas a partir de sílice fundida de gran pureza, las obleas de cuarzo presentan una estructura amorfa uniforme, lo que garantiza un rendimiento constante sin límites internos de grano. Combinadas con un pulido de precisión y un estricto control del grosor, ofrecen una excelente calidad superficial para procesos de fabricación avanzados.


Características principales

  • Pureza ultra alta (≥99,99% SiO₂) para entornos sensibles a la contaminación.
  • Amplio rango de temperaturas de funcionamiento (estable hasta >1100°C)
  • Alta transmisión óptica desde el ultravioleta hasta el infrarrojo cercano
  • Bajo coeficiente de dilatación térmica para estabilidad dimensional
  • Excelente resistencia química a ácidos, álcalis y disolventes
  • Acabado superficial ultrasuave (Ra ≤ 1 nm) adecuado para óptica de precisión y MEMS.

Características de los materiales

 

Las obleas de cuarzo se basan en SiO₂ fundido amorfo., ofreciendo:

  • Estructura isótropa con un comportamiento óptico coherente
  • Sin los efectos de birrefringencia habituales en los materiales cristalinos
  • Alta resistencia al choque térmico y a la exposición al plasma
  • Baja desgasificación, adecuado para entornos de vacío

En comparación con el vidrio convencional, las obleas de cuarzo ofrecen mayor pureza, mejor durabilidad térmica y una transmisión óptica más amplia, lo que las convierte en el material preferido en las industrias de semiconductores y fotónica.


Especificaciones

Espec Unidad 4″ 6″ 8″ 10″ 12″
Diámetro / Tamaño mm 100 150 200 250 300
Tolerancia (±) mm 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
Espesor mm ≥0.10 ≥0.30 ≥0.40 ≥0.50 ≥0.50
Referencia primaria Plano mm 32.5 57.5 Semimuesca Semimuesca Semimuesca
LTV (5×5 mm) μm <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5
TTV μm <2 <3 <3 <5 <5
Arco μm ±20 ±30 ±40 ±40 ±40
Warp μm ≤30 ≤40 ≤50 ≤50 ≤50
PLTV (5×5 mm) % ≥95 ≥95 ≥95 ≥95 ≥95
Redondeo de bordes mm Conformidad con SEMI M1.2 / IEC62276
Tipo de superficie SSP / DSP
Ra lateral pulida nm ≤1 ≤1 ≤1 ≤1 ≤1
Criterios del reverso μm 0,2-0,7 o personalizado

Aplicaciones

Procesado de semiconductores

Las obleas de cuarzo se utilizan ampliamente como obleas portadoras y componentes de proceso en entornos de alta temperatura, como la difusión, la deposición y el grabado. Su estabilidad térmica garantiza un rendimiento constante a lo largo de

ciclos ermales.

MEMS y sensores

En la fabricación de MEMS, las obleas de cuarzo proporcionan sustratos estables para microestructuras y sensores que operan en el espacio.

g en condiciones de estrés mecánico y térmico.

Óptica y fotónica

Con una excelente transmisión UV e IR, las obleas de cuarzo son ideales para:

  • Ventanas ópticas
  • Componentes láser
  • Sustratos de revestimiento
  • Elementos ópticos de precisión

Uso industrial y de laboratorio

Las obleas de cuarzo también se aplican en:

  • Cámaras de plasma y sistemas de vacío
  • Análisis químicos y biomédicos
  • Portamuestras de alta temperatura

Proceso de fabricación

Las obleas de cuarzo se fabrican mediante un proceso controlado para garantizar su pureza y precisión:

  1. Selección de materias primas de SiO₂ de gran pureza
  2. Fusión a aproximadamente 2000°C
  3. Enfriamiento controlado para formar bloques sólidos de cuarzo
  4. Corte de precisión con sierras de hilo
  5. Lapeado y pulido (una o dos caras)
  6. Limpieza e inspección en condiciones de sala limpia

Opciones de personalización

Ofrecemos una personalización flexible basada en los requisitos de la aplicación:

  • Diámetro: 2″-12″ (tamaños personalizados disponibles)
  • Grosor: 0,1-6 mm
  • Acabado superficial: SSP / DSP
  • Tipo de filo: Muesca / Plano / Redondeado
  • Tratamiento adicional:
    • Taladrado láser
    • Patrones
    • Revestimientos ópticos

PREGUNTAS FRECUENTES

¿Qué es una oblea de cuarzo?
Una oblea de cuarzo es un sustrato de SiO₂ de gran pureza utilizado en aplicaciones de semiconductores, MEMS y óptica que requieren estabilidad térmica y resistencia química.

¿Pueden las obleas de cuarzo soportar altas temperaturas?
Sí, pueden funcionar continuamente a temperaturas superiores a 1000°C sin deformarse.

¿Qué hace que el cuarzo sea mejor que el vidrio estándar?
El cuarzo ofrece mayor pureza, resistencia térmica superior y mejor transmisión óptica, lo que lo hace adecuado para aplicaciones industriales avanzadas.

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