Кварцевые пластины SiO₂ 2″ 3″ 4″ 6″ 8″ 12″ для МЭМС, полупроводниковых и оптических применений

Кварцевые пластины SiO₂ - это подложки сверхвысокой чистоты, широко используемые в обработке полупроводников, производстве МЭМС, радиочастотных устройств и оптических систем. Эти пластины стандартного диаметра от 2 до 12 дюймов предназначены для приложений, требующих высокой термической стабильности, оптической прозрачности и химической стойкости. Произведенные из высокочистого плавленого кварца, кварцевые пластины имеют однородную аморфную структуру, обеспечивающую стабильную производительность без внутренних границ зерен.

Кварцевые пластины SiO₂ - это подложки сверхвысокой чистоты, широко используемые при обработке полупроводников, изготовлении МЭМС, радиочастотных устройств и оптических систем. Эти пластины стандартного диаметра от 2 до 12 дюймов предназначены для применения в приложениях, требующих высокой термической стабильности, оптической прозрачности и химической стойкости.

Произведенные из высокочистого плавленого кварца, кварцевые пластины имеют однородную аморфную структуру, обеспечивающую стабильную производительность без внутренних границ зерен. В сочетании с прецизионной полировкой и жестким контролем толщины они обеспечивают превосходное качество поверхности для передовых производственных процессов.


Основные характеристики

  • Сверхвысокая чистота (≥99,99% SiO₂) для чувствительных к загрязнению сред
  • Широкий диапазон рабочих температур (стабильность до >1100°C)
  • Высокое оптическое пропускание от ультрафиолетового до ближнего инфракрасного диапазона
  • Низкий коэффициент теплового расширения для стабильности размеров
  • Отличная химическая стойкость к кислотам, щелочам и растворителям
  • Сверхгладкая поверхность (Ra ≤ 1 нм) подходит для прецизионной оптики и МЭМС

Характеристики материала

 

Кварцевые пластины изготавливаются на основе аморфный плавленый SiO₂, предлагая:

  • Изотропная структура с постоянным оптическим поведением
  • Отсутствие эффекта двулучепреломления, характерного для кристаллических материалов
  • Высокая устойчивость к тепловому удару и воздействию плазмы
  • Низкое газовыделение, подходит для вакуумных сред

По сравнению с обычным стеклом, кварцевые пластины обеспечивают более высокую чистоту, лучшую термическую стойкость и более широкое оптическое пропускание, что делает их предпочтительным материалом в полупроводниковой и фотонной промышленности.


Технические характеристики

Spec Единица 4″ 6″ 8″ 10″ 12″
Диаметр / размер мм 100 150 200 250 300
Допуск (±) мм 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
Толщина мм ≥0.10 ≥0.30 ≥0.40 ≥0.50 ≥0.50
Первичная контрольная квартира мм 32.5 57.5 Полунасечка Полунасечка Полунасечка
LTV (5×5 мм) мкм <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5
TTV мкм <2 <3 <3 <5 <5
Лук мкм ±20 ±30 ±40 ±40 ±40
Warp мкм ≤30 ≤40 ≤50 ≤50 ≤50
PLTV (5×5 мм) % ≥95 ≥95 ≥95 ≥95 ≥95
Скругление краев мм Соответствие стандартам SEMI M1.2 / IEC62276
Тип поверхности SSP / DSP
Полированные боковые стороны nm ≤1 ≤1 ≤1 ≤1 ≤1
Критерии обратной стороны мкм 0,2-0,7 или по индивидуальному заказу

Приложения

Обработка полупроводников

Кварцевые пластины широко используются в качестве несущих пластин и технологических компонентов в высокотемпературных средах, таких как диффузия, осаждение и травление. Их термическая стабильность обеспечивает стабильную работу при многократных

эрмические циклы.

МЭМС и датчики

При производстве МЭМС кварцевые пластины служат стабильными подложками для микроструктур и датчиков, работающих в режиме

g в условиях механических и термических нагрузок.

Оптика и фотоника

Кварцевые пластины с превосходным УФ- и ИК-пропусканием идеально подходят для:

  • Оптические окна
  • Лазерные компоненты
  • Подложки для нанесения покрытий
  • Прецизионные оптические элементы

Промышленное и лабораторное использование

Кварцевые пластины также применяются в:

  • Плазменные камеры и вакуумные системы
  • Химический и биомедицинский анализ
  • Высокотемпературные носители образцов

Производственный процесс

Кварцевые пластины производятся с помощью контролируемого процесса, обеспечивающего чистоту и точность:

  1. Выбор высокочистого сырья SiO₂
  2. Плавление при температуре около 2000°C
  3. Контролируемое охлаждение для получения твердых кварцевых блоков
  4. Точная нарезка с помощью проволочных пил
  5. Притирка и полировка (с одной или двух сторон)
  6. Очистка и контроль в условиях чистого помещения

Параметры настройки

Мы обеспечиваем гибкую настройку в соответствии с требованиями приложения:

  • Диаметр: 2″-12″ (возможны нестандартные размеры)
  • Толщина: 0,1-6 мм
  • Обработка поверхности: SSP / DSP
  • Тип кромки: Насечка / Плоская / Закругленная
  • Дополнительная обработка:
    • Лазерное сверление
    • Выкройки
    • Оптические покрытия

ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ

Что такое кварцевая пластина?
Кварцевая пластина - это подложка из SiO₂ высокой чистоты, используемая в полупроводниковых, МЭМС и оптических приложениях, требующих термической стабильности и химической стойкости.

Могут ли кварцевые пластины выдерживать высокие температуры?
Да, они могут непрерывно работать при температурах свыше 1000°C без деформации.

Чем кварц лучше обычного стекла?
Кварц отличается высокой чистотой, превосходной термостойкостью и лучшим оптическим пропусканием, что делает его подходящим для современных промышленных применений.

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “SiO₂ Quartz Wafers 2″ 3″ 4″ 6″ 8″ 12″ for MEMS, Semiconductor & Optical Applications”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Корзина для покупок
Прокрутить вверх