As bolachas de quartzo SiO₂ são substratos de pureza ultra-alta amplamente utilizados no processamento de semicondutores, fabricação de MEMS, dispositivos de RF e sistemas ópticos. Disponível em diâmetros padrão de 2 "a 12", essas bolachas são projetadas para aplicações que requerem alta estabilidade térmica, transparência ótica e resistência química.
Produzidas a partir de sílica fundida de elevada pureza, as bolachas de quartzo apresentam uma estrutura amorfa uniforme, garantindo um desempenho consistente sem limites internos de grão. Combinadas com um polimento de precisão e um controlo rigoroso da espessura, proporcionam uma excelente qualidade de superfície para processos de fabrico avançados.
Caraterísticas principais
- Pureza ultra-alta (≥99,99% SiO₂) para ambientes sensíveis à contaminação
- Ampla gama de temperaturas de funcionamento (estável até >1100°C)
- Elevada transmissão ótica dos UV aos infravermelhos próximos
- Baixo coeficiente de expansão térmica para estabilidade dimensional
- Excelente resistência química a ácidos, álcalis e solventes
- Acabamento superficial ultra-suave (Ra ≤ 1 nm) adequado para ótica de precisão e MEMS
Caraterísticas do material

As bolachas de quartzo são baseadas em SiO₂ amorfo fundido, oferecendo:
- Estrutura isotrópica com comportamento ótico consistente
- Sem efeitos de birrefringência comuns em materiais cristalinos
- Elevada resistência ao choque térmico e à exposição ao plasma
- Baixa libertação de gases, adequado para ambientes de vácuo
Em comparação com o vidro convencional, as bolachas de quartzo proporcionam maior pureza, melhor durabilidade térmica e maior transmissão ótica, tornando-as um material preferido nas indústrias de semicondutores e fotónica.
Especificações
| Espécie | Unidade | 4″ | 6″ | 8″ | 10″ | 12″ |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Diâmetro / Tamanho | mm | 100 | 150 | 200 | 250 | 300 |
| Tolerância (±) | mm | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
| Espessura | mm | ≥0.10 | ≥0.30 | ≥0.40 | ≥0.50 | ≥0.50 |
| Referência primária plana | mm | 32.5 | 57.5 | Semi-nó | Semi-nó | Semi-nó |
| LTV (5×5 mm) | μm | <0.5 | <0.5 | <0.5 | <0.5 | <0.5 |
| TTV | μm | <2 | <3 | <3 | <5 | <5 |
| Arco | μm | ±20 | ±30 | ±40 | ±40 | ±40 |
| Deformar | μm | ≤30 | ≤40 | ≤50 | ≤50 | ≤50 |
| VLP (5×5 mm) | % | ≥95 | ≥95 | ≥95 | ≥95 | ≥95 |
| Arredondamento de arestas | mm | Compatível com SEMI M1.2 / IEC62276 | ||||
| Tipo de superfície | — | SSP / DSP | ||||
| Raio lateral polido | nm | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 |
| Critérios da parte traseira | μm | 0,2-0,7 ou personalizado |
Aplicações
Processamento de semicondutores
As bolachas de quartzo são amplamente utilizadas como bolachas portadoras e componentes de processos em ambientes de alta temperatura, como difusão, deposição e gravação. A sua estabilidade térmica assegura um desempenho consistente durante repetidos processos de
ciclos térmicos.
MEMS e sensores
No fabrico de MEMS, as bolachas de quartzo fornecem substratos estáveis para microestruturas e sensores que funcionam
g sob condições de tensão mecânica e térmica.
Ótica e fotónica
Com uma excelente transmissão de UV e IR, as bolachas de quartzo são ideais para:
- Janelas ópticas
- Componentes laser
- Substratos de revestimento
- Elementos ópticos de precisão
Utilização industrial e laboratorial
As bolachas de quartzo também são aplicadas em:
- Câmaras de plasma e sistemas de vácuo
- Análises químicas e biomédicas
- Transportadores de amostras a alta temperatura
Processo de fabrico
As bolachas de quartzo são produzidas através de um processo controlado para garantir a pureza e a precisão:
- Seleção de matérias-primas de SiO₂ de elevada pureza
- Fusão a cerca de 2000°C
- Arrefecimento controlado para formar blocos de quartzo sólidos
- Corte de precisão com serras de fio
- Lapidação e polimento (simples ou dupla face)
- Limpeza e inspeção em condições de sala limpa
Opções de personalização
Fornecemos personalização flexível com base nos requisitos da aplicação:
- Diâmetro: 2″-12″ (tamanhos personalizados disponíveis)
- Espessura: 0,1-6 mm
- Acabamento da superfície: SSP / DSP
- Tipo de borda: Entalhado / Plano / Arredondado
- Processamento adicional:
- Perfuração a laser
- Padronização
- Revestimentos ópticos
FAQ
O que é uma pastilha de quartzo?
Uma bolacha de quartzo é um substrato de SiO₂ de elevada pureza utilizado em aplicações de semicondutores, MEMS e ópticas que requerem estabilidade térmica e resistência química.
As bolachas de quartzo podem suportar temperaturas elevadas?
Sim, podem funcionar continuamente a temperaturas superiores a 1000°C sem deformação.
O que torna o quartzo melhor do que o vidro normal?
O quartzo oferece maior pureza, resistência térmica superior e melhor transmissão ótica, tornando-o adequado para aplicações industriais avançadas.












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