Tấm thạch anh SiO₂ kích thước 2″, 3″, 4″, 6″, 8″, 12″ dùng cho các ứng dụng MEMS, bán dẫn và quang học

Tấm thạch anh SiO₂ là các chất nền có độ tinh khiết cực cao, được sử dụng rộng rãi trong chế biến bán dẫn, sản xuất MEMS, thiết bị RF và hệ thống quang học. Có sẵn với các đường kính tiêu chuẩn từ 2″ đến 12″, các tấm thạch anh này được thiết kế dành cho các ứng dụng đòi hỏi độ ổn định nhiệt cao, độ trong suốt quang học và khả năng chống ăn mòn hóa học. Được sản xuất từ silica nung chảy có độ tinh khiết cao, các tấm thạch anh này có cấu trúc vô định hình đồng nhất, đảm bảo hiệu suất ổn định mà không có ranh giới hạt bên trong.

Tấm wafer thạch anh SiO₂ là các chất nền có độ tinh khiết cực cao, được sử dụng rộng rãi trong chế biến bán dẫn, sản xuất MEMS, thiết bị RF và hệ thống quang học. Có sẵn với các đường kính tiêu chuẩn từ 2″ đến 12″, các tấm wafer này được thiết kế dành cho các ứng dụng đòi hỏi độ ổn định nhiệt cao, độ trong suốt quang học và khả năng chống ăn mòn hóa học.

Được sản xuất từ silica nung chảy có độ tinh khiết cao, các tấm thạch anh có cấu trúc vô định hình đồng nhất, đảm bảo hiệu suất ổn định mà không có ranh giới hạt bên trong. Kết hợp với quy trình đánh bóng chính xác và kiểm soát độ dày chặt chẽ, chúng mang lại chất lượng bề mặt tuyệt vời cho các quy trình sản xuất tiên tiến.


Các tính năng chính

  • Độ tinh khiết cực cao (≥99,991% SiO₂) dành cho các môi trường nhạy cảm với ô nhiễm
  • Dải nhiệt độ hoạt động rộng (ổn định ở nhiệt độ lên đến >1100°C)
  • Độ truyền sáng cao từ tia cực tím đến tia hồng ngoại gần
  • Hệ số giãn nở nhiệt thấp, đảm bảo độ ổn định kích thước
  • Khả năng chống hóa chất tuyệt vời đối với axit, kiềm và dung môi
  • Bề mặt được gia công cực kỳ nhẵn (Ra ≤ 1 nm), phù hợp cho quang học chính xác và MEMS

Đặc tính vật liệu

 

Tấm wafer thạch anh được chế tạo dựa trên SiO₂ vô định hình đã nung chảy, cung cấp:

  • Cấu trúc đẳng hướng có tính chất quang học đồng nhất
  • Không có hiện tượng song khúc xạ thường gặp ở các vật liệu tinh thể
  • Khả năng chịu sốc nhiệt và tiếp xúc với plasma cao
  • Độ thoát khí thấp, phù hợp với môi trường chân không

So với thủy tinh thông thường, các tấm thạch anh có độ tinh khiết cao hơn, khả năng chịu nhiệt tốt hơn và dải truyền dẫn quang rộng hơn, khiến chúng trở thành vật liệu được ưa chuộng trong ngành công nghiệp bán dẫn và quang tử.


Thông số kỹ thuật

Thông số kỹ thuật Đơn vị 4″ 6 inch 8 inch 10 inch 12 inch
Đường kính / Kích thước mm 100 150 200 250 300
Dung sai (±) mm 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
Độ dày mm ≥0,10 ≥0,30 ≥0,40 ≥0,50 ≥0,50
Căn hộ tham chiếu chính mm 32.5 57.5 Khe hở bán phần Khe hở bán phần Khe hở bán phần
LTV (5×5 mm) μm <0,5 <0,5 <0,5 <0,5 <0,5
TTV μm <2 <3 <3 <5 <5
Cung μm ±20 ±30 ±40 ±40 ±40
Warp μm ≤30 ≤40 ≤50 ≤50 ≤50
PLTV (5×5 mm) % ≥95 ≥95 ≥95 ≥95 ≥95
Làm tròn góc mm Tuân thủ tiêu chuẩn SEMI M1.2 / IEC 62276
Loại bề mặt SSP / DSP
Mặt bên được đánh bóng nm ≤1 ≤1 ≤1 ≤1 ≤1
Tiêu chí mặt sau μm 0,2–0,7 hoặc theo yêu cầu

Ứng dụng

Chế tạo chất bán dẫn

Tấm thạch anh được sử dụng rộng rãi làm tấm nền và các thành phần trong quy trình xử lý ở môi trường nhiệt độ cao như khuếch tán, lắng đọng và ăn mòn. Độ ổn định nhiệt của chúng đảm bảo hiệu suất ổn định trong quá trình xử lý lặp đi lặp lại

chu kỳ nhiệt.

MEMS và Cảm biến

Trong quá trình chế tạo MEMS, các tấm thạch anh cung cấp nền ổn định cho các cấu trúc vi mô và cảm biến hoạt động

g trong điều kiện chịu tác động của ứng suất cơ học và nhiệt.

Quang học & Quang tử học

Với khả năng truyền tia UV và hồng ngoại (IR) tuyệt vời, các tấm thạch anh là lựa chọn lý tưởng cho:

  • Cửa sổ quang học
  • Các bộ phận laser
  • Chất nền phủ
  • Các thành phần quang học chính xác

Sử dụng trong công nghiệp và phòng thí nghiệm

Tấm thạch anh cũng được ứng dụng trong:

  • Buồng plasma và hệ thống chân không
  • Phân tích hóa học và y sinh
  • Giá đựng mẫu chịu nhiệt độ cao

Quy trình sản xuất

Các tấm wafer thạch anh được sản xuất thông qua một quy trình được kiểm soát chặt chẽ để đảm bảo độ tinh khiết và độ chính xác:

  1. Lựa chọn nguyên liệu SiO₂ có độ tinh khiết cao
  2. Nhiệt độ nóng chảy khoảng 2000°C
  3. Làm lạnh có kiểm soát để tạo thành các khối thạch anh rắn
  4. Cắt chính xác bằng máy cưa dây
  5. Mài nhẵn và đánh bóng (một mặt hoặc hai mặt)
  6. Vệ sinh và kiểm tra trong điều kiện phòng sạch

Các tùy chọn tùy chỉnh

Chúng tôi cung cấp các giải pháp tùy chỉnh linh hoạt dựa trên yêu cầu của ứng dụng:

  • Đường kính: 2″–12″ (có thể đặt hàng theo kích thước yêu cầu)
  • Độ dày: 0,1–6 mm
  • Bề mặt hoàn thiện: SSP / DSP
  • Loại cạnh: Có khía / Phẳng / Tròn
  • Các bước xử lý bổ sung:
    • Khoan bằng laser
    • Tạo mẫu
    • Lớp phủ quang học

Câu hỏi thường gặp

Tấm thạch anh là gì?
Tấm thạch anh là một chất nền SiO₂ có độ tinh khiết cao, được sử dụng trong các ứng dụng bán dẫn, MEMS và quang học đòi hỏi tính ổn định nhiệt và khả năng chống ăn mòn hóa học.

Tấm thạch anh có chịu được nhiệt độ cao không?
Đúng vậy, chúng có thể hoạt động liên tục ở nhiệt độ trên 1000°C mà không bị biến dạng.

Điều gì khiến thạch anh tốt hơn so với thủy tinh thông thường?
Thạch anh có độ tinh khiết cao hơn, khả năng chịu nhiệt vượt trội và độ truyền sáng tốt hơn, khiến nó trở thành vật liệu lý tưởng cho các ứng dụng công nghiệp tiên tiến.

Đánh giá

Chưa có đánh giá nào.

Hãy là người đầu tiên nhận xét “SiO₂ Quartz Wafers 2″ 3″ 4″ 6″ 8″ 12″ for MEMS, Semiconductor & Optical Applications”

Email của bạn sẽ không được hiển thị công khai. Các trường bắt buộc được đánh dấu *

Giỏ hàng
Lên đầu trang