SiO₂ kwartswafers zijn ultrazuivere substraten die veel gebruikt worden in halfgeleiderverwerking, MEMS-fabricage, RF-apparaten en optische systemen. Deze wafers zijn verkrijgbaar in standaarddiameters van 2″ tot 12″ en zijn ontworpen voor toepassingen die een hoge thermische stabiliteit, optische transparantie en chemische weerstand vereisen.
Kwartswafers zijn gemaakt van hoogzuiver gesmolten silica en hebben een uniforme amorfe structuur, waardoor ze consistente prestaties leveren zonder interne korrelgrenzen. In combinatie met precisiepolijsten en een strakke dikteregeling bieden ze een uitstekende oppervlaktekwaliteit voor geavanceerde fabricageprocessen.
Belangrijkste kenmerken
- Ultrahoge zuiverheid (≥99,99% SiO₂) voor vervuilingsgevoelige omgevingen
- Breed bedrijfstemperatuurbereik (stabiel tot >1100°C)
- Hoge optische transmissie van UV tot nabij infrarood
- Lage thermische uitzettingscoëfficiënt voor maatvastheid
- Uitstekende chemische weerstand tegen zuren, alkaliën en oplosmiddelen
- Ultragladde oppervlakteafwerking (Ra ≤ 1 nm) geschikt voor precisieoptiek en MEMS
Materiaalkenmerken
Kwartswafels zijn gebaseerd op amorf gesmolten SiO₂, aanbieden:
- Isotrope structuur met consistent optisch gedrag
- Geen birefringentie-effecten zoals gebruikelijk in kristallijne materialen
- Hoge weerstand tegen thermische schokken en blootstelling aan plasma
- Lage uitgassing, geschikt voor vacuümomgevingen
Vergeleken met conventioneel glas bieden kwartswafers een hogere zuiverheid, een betere thermische duurzaamheid en een bredere optische transmissie, waardoor ze een geprefereerd materiaal zijn in de halfgeleider- en fotonica-industrie.
Specificaties
| Spec | Eenheid | 4″ | 6″ | 8″ | 10″ | 12″ |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Diameter / Grootte | mm | 100 | 150 | 200 | 250 | 300 |
| Tolerantie (±) | mm | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
| Dikte | mm | ≥0.10 | ≥0.30 | ≥0.40 | ≥0.50 | ≥0.50 |
| Primaire referentie Flat | mm | 32.5 | 57.5 | Halve inkeping | Halve inkeping | Halve inkeping |
| LTV (5×5 mm) | μm | <0.5 | <0.5 | <0.5 | <0.5 | <0.5 |
| TTV | μm | <2 | <3 | <3 | <5 | <5 |
| Boog | μm | ±20 | ±30 | ±40 | ±40 | ±40 |
| Warp | μm | ≤30 | ≤40 | ≤50 | ≤50 | ≤50 |
| PLTV (5×5 mm) | % | ≥95 | ≥95 | ≥95 | ≥95 | ≥95 |
| Afronden | mm | Voldoet aan SEMI M1.2 / IEC62276 | ||||
| Type oppervlak | — | SSP/DSP | ||||
| Gepolijste zijde Ra | nm | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 |
| Criteria achterkant | μm | 0,2-0,7 of aangepast |
Toepassingen
Halfgeleiderverwerking
Kwartswafers worden veel gebruikt als dragerwafers en procescomponenten in omgevingen met hoge temperaturen, zoals diffusie, afzetting en etsen. Hun thermische stabiliteit zorgt voor consistente prestaties tijdens herhaalde
ermale cycli.
MEMS & Sensoren
Bij MEMS-fabricage bieden kwartswafers stabiele substraten voor microstructuren en sensoren.
g onder mechanische en thermische stressomstandigheden.
Optica en fotonica
Met een uitstekende UV- en IR-transmissie zijn kwartswafers ideaal voor:
- Optische vensters
- Laseronderdelen
- Substraten coaten
- Optische precisie-elementen
Industrieel en laboratoriumgebruik
Kwartswafers worden ook toegepast in:
- Plasmakamers en vacuümsystemen
- Chemische en biomedische analyse
- Monsterdragers voor hoge temperaturen
Productieproces
Kwartswafers worden geproduceerd via een gecontroleerd proces om zuiverheid en precisie te garanderen:
- Selectie van zeer zuivere SiO₂-grondstoffen
- Smelt bij ongeveer 2000°C
- Gecontroleerd afkoelen tot massieve kwartsblokken
- Precisiesnijden met draadzagen
- Leppen en polijsten (enkel- of dubbelzijdig)
- Reiniging en inspectie in cleanroomomstandigheden
Aanpassingsopties
We bieden flexibel maatwerk op basis van de vereisten van de toepassing:
- Diameter: 2″-12″ (aangepaste maten beschikbaar)
- Dikte: 0,1-6 mm
- Afwerking oppervlak: SSP / DSP
- Type rand: Inkeping / Plat / Afgerond
- Extra verwerking:
- Laserboren
- Patronen
- Optische coatings
FAQ
Wat is een kwartswafer?
Een kwartswafer is een zeer zuiver SiO₂-substraat dat gebruikt wordt in halfgeleider-, MEMS- en optische toepassingen die thermische stabiliteit en chemische weerstand vereisen.
Zijn kwartswafers bestand tegen hoge temperaturen?
Ja, ze kunnen continu werken bij temperaturen boven 1000°C zonder te vervormen.
Wat maakt kwarts beter dan standaardglas?
Kwarts biedt een hogere zuiverheid, een superieure thermische weerstand en een betere optische transmissie, waardoor het geschikt is voor geavanceerde industriële toepassingen.
Beoordelingen
Er zijn nog geen beoordelingen.