Custom Fused Quartz Plates med genomgående hål är högprecisionskomponenter som tillverkas av kiseldioxid med ultrahög renhet (SiO₂ > 99,9%). Dessa plattor är speciellt utformade för avancerade industriella och vetenskapliga tillämpningar där termisk stabilitet, kemisk beständighet och optisk prestanda är avgörande.
Till skillnad från vanliga glasmaterial erbjuder smält kvarts en unik kombination av låg termisk expansion, hög temperaturbeständighet och bred optisk transmission, vilket gör den idealisk för halvledar-, fotonik- och laboratoriesystem. Genom att integrera precisionsborrade hål möjliggör dessa kvartsplattor kontrollerat vätskeflöde, gasdistribution eller optisk inriktning, vilket förvandlar dem från passiva substrat till funktionella systemkomponenter.
Produkterna finns i flera olika kvaliteter, t.ex. JGS1, JGS2 och JGS3, och kan skräddarsys för att uppfylla olika våglängdskrav, från djup ultraviolett (UV) till infraröd (IR).
Viktiga funktioner
- Kvarts med extremt hög renhet (SiO₂ > 99,9%) ger utmärkt optisk klarhet
- Anpassad hålstorlek, position och geometri baserat på CAD-ritningar
- Enastående värmebeständighet (upp till 1100°C kontinuerlig användning)
- Extremt låg termisk expansion för dimensionsstabilitet
- Hög kemisk beständighet (utom fluorvätesyra)
- Optisk polering tillgänglig för precisionstillämpningar
- Kompatibel med renrumsmiljöer och miljöer med hög renhet
- Lämplig för både strukturell och optisk integration
Materialkvaliteter
JGS1 - UV-klassad smält kiseldioxid
JGS1 har utmärkt transmission från 185 nm till 2500 nm, vilket gör den idealisk för djupa UV-tillämpningar som litografi, UV-lasrar och optiska system med hög energi. Den har mycket låg hydroxylhalt (OH-) och minimal dubbelbrytning.
JGS2 - Kvarts av optisk kvalitet
JGS2 används ofta för tillämpningar i det synliga och nära infraröda området (260-2500 nm). Den ger hög optisk enhetlighet och är en kostnadseffektiv lösning för allmänna optiska system.
JGS3 - Infrarött kvartsglas
JGS3 är optimerad för infraröda applikationer och industriell användning. Även om den har lägre transmission i det djupa UV-området fungerar den bra i termiska och IR-relaterade miljöer.
Tillverkningsprocess
Tillverkningen av anpassade smälta kvartsplattor kräver strikt processkontroll för att säkerställa precision och konsekvens:
1. Val av material
Kvartsgöt med hög renhet väljs ut och bereds enligt applikationskraven.
2. Precisionsskärning och -formning
Avancerad CNC-bearbetning, vattenskärning eller laserskärning används för att uppnå anpassade dimensioner och geometrier.
3. Borrning av hål
Genomgående hål skapas med hjälp av specialiserade tekniker som ultraljudsborrning, CO₂-laserborrning eller mekanisk borrning, beroende på tolerans- och ytkvalitetskrav.
4. Ytbehandling
Optisk polering (enkelsidig eller dubbelsidig) används för att uppnå hög ytplanhet och låg grovhet. Kantbearbetning, avfasning och kemisk polering är också tillgängliga.
5. Rengöring & inspektion
Alla komponenter genomgår rigorös rengöring i kontrollerade miljöer och inspekteras med avseende på måttnoggrannhet, ytkvalitet och optisk prestanda.
Tekniska specifikationer （参数表）
| Fastighet | Typiskt värde |
|---|---|
| Diameter | 10 mm - 600 mm |
| Längd | 10 mm - 1000 mm |
| Bredd | 10 mm - 1000 mm |
| Tjocklek | 0,5 mm - 60 mm |
| Material | SiO₂ med hög renhet (>99,9%) |
| Täthet | 2,2 × 10³ kg/m³ |
| Hårdhet | 5,3 - 6,5 (Mohs) |
| Tryckhållfasthet | ＞1,1 × 10⁹ Pa |
| Termisk expansion | 5.5 × 10-⁷ /℃ |
| Max temperatur (kort sikt) | 1200℃ |
| Max temperatur (lång sikt) | 1100℃ |
| Mjukgörande punkt | 1730℃ |
| Brytningsindex | 1.4585 |
| Transmittans | ≥85% |
Tillämpningar
Tack vare den unika kombinationen av mekanisk styrka, optisk klarhet och strukturell anpassning används dessa kvartsplattor i stor utsträckning inom många olika branscher:
Halvledarindustrin
Används som waferbärare, gasdistributionsplattor (duschhuvuden) och strukturella komponenter i ets- och deponeringssystem. Deras höga renhet säkerställer kompatibilitet med renrumsprocesser.
Mikrofluidik och biovetenskap
Precisionsborrade hål möjliggör vätskekontroll i mikrofluidikchip, lab-on-chip-enheter och analysinstrument.
Optik och fotonik
Används i optiska masker, aperturer, laserfönster och strålriktningssystem där hög transmission och stabilitet krävs.
Vetenskaplig forskning
Används i anpassade reaktionskammare, högtemperaturexperiment och korrosiva miljöer där standardmaterial inte fungerar på ett tillförlitligt sätt.
Kemisk och farmaceutisk utrustning
Idealisk för flödesreaktorer, provtagningssystem och UV/IR-spektroskopiceller som kräver kemisk beständighet och optisk åtkomst.
VANLIGA FRÅGOR
F1: Kan hålstorlek och position anpassas helt och hållet?
Ja, alla dimensioner inklusive håldiameter (0,1-20 mm), position och layout kan anpassas utifrån CAD-ritningar.
F2: Vad är skillnaden mellan JGS1 och JGS2?
JGS1 är utformad för djupa UV-applikationer med högre renhet, medan JGS2 är mer lämpad för synliga och nära infraröda applikationer med bättre kostnadseffektivitet.
F3: Är dessa kvartsplattor kemiskt resistenta?
Ja, smält kvarts är mycket motståndskraftigt mot de flesta syror och kemikalier, utom fluorvätesyra (HF).
Q4: Kan flera hål eller komplexa former produceras?
Ja, konstruktioner med flera hål, spår och komplexa geometrier stöds fullt ut.
Recensioner
Det finns inga recensioner än.