Natronkalkglas wafers zijn een kosteneffectief en veel gebruikt alternatief voor borosilicaat en kwarts wafers, vooral in toepassingen waar een hoge optische helderheid, glad oppervlak en lage materiaalkosten vereist zijn.
Natronkalkglas wordt vervaardigd met behulp van het floatglasproces en biedt een uitstekende vlakheid, uniforme dikte en lage oppervlakteruwheid, waardoor het zeer geschikt is voor dunne/dikke filmdepositie, coatingprocessen en MEMS-gerelateerd onderzoek.
Door het chemisch stabiele en niet-reactieve oppervlak worden wafers van natronkalkglas vaak gebruikt als mechanische dragersubstraten voor geleidende elektroden en functionele dunne films.
Belangrijkste kenmerken
- Hoge optische transparantie
Zichtbare lichttransmissie tot 88-92%, geschikt voor optische en beeldschermtoepassingen - Ultravlak oppervlak
Floatproces zorgt voor glad oppervlak, ideaal voor coating en lithografie - Kosteneffectief alternatief
Lagere kosten dan kwarts en borosilicaat wafers, ideaal voor grote volumes - Uitstekende verwerkbaarheid
Gemakkelijk te snijden, polijsten, in blokjes te snijden, te boren en te vormen tot wafers op maat - Chemische stabiliteit
Bestand tegen water en milde zuren voor algemene laboratorium- en industriële omgevingen - Sterkte-opties op maat
Kan chemisch worden versterkt of thermisch worden getemperd
Typische toepassingen
- Depositie van dunne en dikke film
- MEMS en microfabricage
- Microfluïdische apparaten
- Substraten voor optische coating
- Sensor- en detectieplatforms
- Beeldscherm en aanraakscherm R&D
- Laboratoriumtestwafels
Specificaties wafers
| Parameter | Waarde |
|---|---|
| Materiaal | Soda-Kalkglas |
| Diameter | 2” / 3” / 4” / 6” (op maat verkrijgbaar) |
| Dikte | 0,5 mm - 3 mm (aanpasbaar) |
| Afwerking oppervlak | Gepolijst / Dubbelzijdig gepolijst |
| Vlakheid | Beschikbaar op aanvraag |
| Type rand | Afgerond / Afgeschuind |
| Transparantie | 88-92% |
| Brekingsindex | 1.51-1.52 |
Fysieke en thermische eigenschappen
| Eigendom | Waarde |
|---|---|
| Dichtheid | 2,5 g/cm³ |
| Modulus van Young | 70-75 GPa |
| Hardheid (Mohs) | ~6.5 |
| Thermische geleidbaarheid | 0,95 W/m-K |
| CTE | ~9 × 10-⁶ /K |
| Spanningspunt | ~500°C |
| Gloeien Bereik | 480-585°C |
| Verzachtingspunt | 585-740°C |
Verwerking & aanpassing
We ondersteunen volledig maatwerk op waferniveau:
- Wafer ontdooien en verkleinen
- Dubbelzijdig polijsten (DSP)
- CNC-bewerking
- Lasersnijden
- Gaten boren / sleuven maken
- Polijsten van randen / afschuinen
Beschikbare coatings
- AR (ontspiegeld)
- Geleidende ITO-coating
- Metaalcoatings (Au, Al, Cr)
- Diëlektrische en optische filters
Toepassingsnotitie
Natronkalkglaswafers worden veel gebruikt als referentiesubstraten in..:
- Ontwikkeling van slijp- en polijstprocessen
- Hechtingstest van dunne film
- Evaluatie van gereedschap en slurry
Door hun consistente materiaaleigenschappen en lage kosten zijn ze ideaal voor proceskalibratie en experimentele validatie.
Voordelen vs Andere Wafermaterialen
| Eigendom | Frisdrank-Lime Wafel | Borosilicaat Wafer | Kwartswafel |
|---|---|---|---|
| Kosten | Laag | Medium | Hoog |
| Thermische weerstand | Matig | Hoog | Zeer hoog |
| Verwerkbaarheid | Uitstekend | Goed | Moeilijk |
| Optische kwaliteit | Goed | Zeer goed | Uitstekend |
Belangrijke opmerking
Door de hogere thermische uitzettingscoëfficiënt zijn wafers van natronkalkglas niet geschikt voor processen met hoge thermische schokken of hoge temperaturen in halfgeleiders.
Voor omgevingen met hoge temperaturen worden wafers van borosilicaat of kwarts aanbevolen.
Standaard levering
- Voorbeeld: 100 stuks (25 × 25 × 1,1 mm)
- Wafer-formaten beschikbaar (rond/vierkant/aangepast)
- Cleanroom verpakking ondersteund
FAQ - Natriumkalkglaswafels
V1: Zijn wafers van natronkalkglas geschikt voor MEMS-processen?
A: Ja, wafers van natronkalkglas worden veel gebruikt bij MEMS-onderzoek en prototypering, vooral bij kostengevoelige toepassingen of toepassingen bij lage temperaturen. Hun gladde, vlakke oppervlakken maken ze geschikt voor dunne filmdepositie, lithografie en microfabricage-experimenten. Voor MEMS-processen bij hoge temperaturen of toepassingen die extreme thermische schokbestendigheid vereisen, kan de voorkeur echter uitgaan naar borosilicaat- of kwartsplakken vanwege hun lagere thermische uitzettingscoëfficiënt en hogere rekpunten.
V2: Kunt u polijsten op waferniveau?
A: Ja, we bieden zowel enkelzijdig als dubbelzijdig polijsten (SSP/DSP) voor natronkalk wafers. Polijsten zorgt voor een vlakheid van optische kwaliteit en een lage oppervlakteruwheid, wat essentieel is voor precisiedunne filmdepositie en optische toepassingen. De oppervlakteruwheid en vlakheid kunnen worden aangepast aan uw procesvereisten, en extra opties zoals polijsten van randen, afschuinen en afschuinen zijn beschikbaar voor verwerking en assemblage in downstreamprocessen.
V3: Kunnen coatings worden aangebracht op wafers?
A: Absoluut. Natronkalkwafels kunnen een breed scala aan coatings krijgen, waaronder:
- Anti-Reflecterende (AR) coatings voor verbeterde lichttransmissie in optische en beeldschermtoepassingen
- Geleidende ITO-coatings voor elektroden of sensortoepassingen
- Metalen coatings (Au, Al, Cr, enz.) voor elektrische contacten of reflecterende oppervlakken
- Diëlektrische en optische filtercoatings voor golflengtespecifieke controle
Deze coatings kunnen enkel- of dubbelzijdig worden aangebracht en diktes of patronen kunnen worden aangepast aan de specifieke optische of elektrische prestatievereisten van uw project.
V4: Wat is de belangrijkste beperking van natronkalkglaswafels?
A: De belangrijkste beperking is de lagere thermische stabiliteit in vergelijking met borosilicaat- of kwartsplakken. Natronkalkglas heeft een hogere thermische uitzettingscoëfficiënt (~9 × 10-⁶ /K) en een relatief laag verwekingspunt. Hierdoor is het gevoeliger voor barsten of kromtrekken bij snelle temperatuurwisselingen of processen op hoge temperatuur. Voor toepassingen met thermische cycli, lijmen op hoge temperatuur of extreme thermische schokken worden alternatieve glassoorten aanbevolen, zoals borosilicaat- of kwartsplakken. Desondanks blijven soda lime wafers zeer betrouwbaar voor processen op kamertemperatuur of lage temperatuur en bieden ze een betaalbaar, optisch helder substraat voor prototypes en onderzoek.
Beoordelingen
Er zijn nog geen beoordelingen.