用於 MEMS、半導體和光學應用的定制高硼硅玻璃晶圓 (2-12”)

高硼硅玻璃晶圓是精密設計的基板,廣泛用於半導體、MEMS 和光學應用。這些晶圓以低熱膨脹係數 (~3.3 × 10-⁶/K)、優異的化學穩定性和高透明度著稱,在中溫環境下,是熔融石英和石英等材料的可靠且具成本效益的替代品。.

高硼硅玻璃晶片 (3.3)

高硼硅玻璃晶圓是精密設計的基板,廣泛用於半導體、MEMS 和光學應用。這些晶圓以低熱膨脹係數 (~3.3 × 10-⁶/K)、優異的化學穩定性和高透明度著稱,在中溫環境下,是熔融石英和石英等材料的可靠且具成本效益的替代品。.

採用浮法玻璃製程生產的硼硅晶圓厚度均勻、平面度佳且內應力低,是高精度微製程與接合製程的理想選擇。.

主要材料組成

高硼硅玻璃通常由以下部分組成:

  • 二氧化矽 (SiO₂):~75-80%
  • 三氧化二硼 (B₂O₃):~12-15%
  • 氧化鋁 (Al₂O₃):小百分比
  • 低鹼金屬氧化物 (<5%)

相較於傳統的鈉鈣玻璃,這種最佳化的成分可提供更高的熱穩定性和耐化學性質。.

主要優勢

硼硅玻璃晶片具有多種性能優點:

  • 低熱膨脹 - 矽晶片接合與 MEMS 結構的理想選擇
  • 優異的抗熱震性 - ΔT最高可達 ~120-150°C (視厚度而定)
  • 高光學透明度 - 適合光學及光子應用
  • 強大的耐化學性 - 可耐酸和大多數化學物質
  • 高平面度與表面品質 - 支援微米與奈米尺寸製造
  • 經濟實惠 - 在許多應用上,比石英或熔融石英更經濟實惠

製造過程

硼矽晶圓使用浮法玻璃法生產,熔融玻璃流過熔融錫槽,形成平滑、均勻的薄片。然後,將材料:

  1. 漸冷(退火)以消除內應力
  2. 切割成指定的晶圓尺寸
  3. 精密研磨與拋光(單面或雙面)

此製程可確保優異的表面品質、嚴密的厚度控制及低瑕疵密度。.

規格

參數 範圍 / 選項
直徑 2” - 12”
厚度 0.2 - 1.1 mm (可客製化)
表面 SSP / DSP
粗糙度 Ra < 1.5 奈米
平坦度 (TTV) < 10 µm(典型值)
形狀 圓形 / 方形 / 自訂

典型應用

1.半導體與微機電

  • 矽晶圓接合(陽極接合)
  • MEMS 裝置和微型感測器
  • IC 封裝基板

2.微流控與生物科技

  • 片上實驗室裝置
  • 微流體通道
  • 生物醫學分析平台

3.光學與光子系統

  • 光學窗和基板
  • 鏡片和稜鏡組件
  • 透明載體晶圓

4.工業與科學設備

  • 高溫觀測窗
  • 實驗室設備和分析裝置

比較:硼硅玻璃與蘇打鈣玻璃的比較

財產 硼硅玻璃 蘇打石灰玻璃杯
熱膨脹 低 (~3.3×10-⁶/K)
抗熱衝擊 極佳 貧窮
耐化學性 中度
成本 中型
應用 MEMS、光學、實驗室 瓶子、窗戶

為何選擇我們的硼硅玻璃晶片

  • 領先玻璃製造商的穩定供應
  • 精密加工與拋光能力
  • 提供客製化尺寸、厚度及表面處理
  • 嚴格的品質控管與無塵室包裝 (Class 100 / ISO 5)
  • 標準規格快速交貨

常見問題

Q1: 什麼是 3.3 硼矽玻璃?
答:它是指熱膨脹係數約為 3.3 × 10-⁶/K 的硼硅玻璃,以優異的熱穩定性著稱。.

Q2: 硼硅玻璃晶片可以取代石英晶片嗎?
答:在中溫應用中,它們可作為具有成本效益的替代品,但在極端高溫環境中,石英仍是首選。.

Q3: 硼硅玻璃晶片與石英晶片有何差異?
答:硼硅玻璃晶圓提供更具成本效益的解決方案,具有良好的熱穩定性和耐化學性質,是 MEMS 和一般半導體應用的理想選擇。另一方面,石英晶圓具有優異的耐高溫和紫外線穿透性,是極端環境和先進光學系統的首選。.

Q4: 硼硅玻璃晶片可以用來與矽陽極結合嗎?
答:是的,由於 3.3 硼硅玻璃晶圓的熱膨脹係數非常接近,因此廣泛用於與矽陽極接合。這可確保強大的接合強度,並將 MEMS 和微流控元件製造中的熱應力減至最低。.

Q5: 硼硅玻璃晶圓有哪些客製化選項?
答:我們提供廣泛的客製化選項,包括晶圓直徑 (2”-12”)、厚度、單面或雙面拋光 (SSP/DSP)、表面粗糙度、平面度 (TTV) 以及客製化形狀,例如正方形或長方形基板。也可根據要求支援鍍膜、鑽孔或圖案化的特殊需求。.

商品評價

目前沒有評價。

搶先評價 “Custom High Borosilicate Glass Wafers for MEMS, Semiconductor & Optical Applications (2–12”)”

發佈留言必須填寫的電子郵件地址不會公開。 必填欄位標示為 *

購物車
滾動到頂端