{"id":2499,"date":"2026-03-09T06:17:33","date_gmt":"2026-03-09T06:17:33","guid":{"rendered":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/"},"modified":"2026-03-13T06:19:08","modified_gmt":"2026-03-13T06:19:08","slug":"quartz-glass-wafers-manufacturing-process-and-key-technologies","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/quartz-glass-wafers-manufacturing-process-and-key-technologies\/","title":{"rendered":"Kvarc\u00fcveg osty\u00e1k gy\u00e1rt\u00e1si folyamata \u00e9s kulcsfontoss\u00e1g\u00fa technol\u00f3gi\u00e1k"},"content":{"rendered":"

A kvarc\u00fcveg osty\u00e1k nagy tisztas\u00e1g\u00fa szil\u00edcium-dioxid (SiO\u2082) szubsztr\u00e1tumok, amelyeket sz\u00e9les k\u00f6rben haszn\u00e1lnak a f\u00e9lvezet\u0151gy\u00e1rt\u00e1sban, optikai rendszerekben \u00e9s prec\u00edzi\u00f3s elektronikus eszk\u00f6z\u00f6kben. Kiv\u00e1l\u00f3 h\u0151stabilit\u00e1suknak, rendk\u00edv\u00fcl alacsony h\u0151t\u00e1gul\u00e1si egy\u00fctthat\u00f3juknak, er\u0151s k\u00e9miai ellen\u00e1ll\u00e1suknak \u00e9s magas optikai \u00e1tereszt\u0151k\u00e9pess\u00e9g\u00fcknek k\u00f6sz\u00f6nhet\u0151en a kvarc\u00fcveg osty\u00e1k fontos szerepet j\u00e1tszanak a fejlett gy\u00e1rt\u00e1si ter\u00fcleteken, p\u00e9ld\u00e1ul a mikro-elektromechanikus rendszerekben (MEMS), a CMOS- \u00e9s CCD-\u00e9rz\u00e9kel\u0151kben, a mikrohull\u00e1m\u00fa \u00e1ramk\u00f6r\u00f6kben, a t\u00e1rgyak internet\u00e9nek (IoT) eszk\u00f6zeiben, valamint a l\u00e9zeres vagy optikai alkatr\u00e9szekben.<\/p>\n\n\n\n

A f\u00e9lvezet\u0151- \u00e9s fotonikai technol\u00f3gi\u00e1k gyors fejl\u0151d\u00e9s\u00e9vel a hordoz\u00f3anyagokkal szemben t\u00e1masztott teljes\u00edtm\u00e9nyk\u00f6vetelm\u00e9nyek folyamatosan n\u0151nek. A hagyom\u00e1nyos optikai kvarckomponensekhez k\u00e9pest a kvarc\u00fcveg osty\u00e1k sokkal szigor\u00fabb szabv\u00e1nyokat k\u00f6vetelnek meg a vastags\u00e1gt\u0171r\u00e9s, a fel\u00fcleti \u00e9rdess\u00e9g, a s\u00edkoss\u00e1g \u00e9s a bels\u0151 anyagegyenletess\u00e9g tekintet\u00e9ben. Ennek eredm\u00e9nyek\u00e9ppen a kvarc\u00fcveg osty\u00e1k gy\u00e1rt\u00e1sa egy sor kifinomult anyagel\u0151k\u00e9sz\u00edt\u00e9si \u00e9s prec\u00edzi\u00f3s feldolgoz\u00e1si l\u00e9p\u00e9st foglal mag\u00e1ban.<\/p>\n\n\n\n

\"\"<\/figure>\n\n\n\n

1. Nyersanyag el\u0151k\u00e9sz\u00edt\u00e9s<\/h2>\n\n\n\n

A kiindul\u00e1si anyag a kvarc\u00fcveg osty\u00e1k<\/a> tipikusan kvarc\u00fcveg ingot. Az ipari termel\u00e9sben k\u00e9t f\u0151 kvarc\u00fcvegt\u00edpust haszn\u00e1lnak: a l\u00e1ngolvasztott kvarc\u00fcveget \u00e9s a szintetikus kvarc\u00fcveget.<\/p>\n\n\n\n

A l\u00e1nggal olvasztott kvarc\u00fcveg nagy tisztas\u00e1g\u00fa kvarchomok hidrog\u00e9n-oxig\u00e9n l\u00e1nggal t\u00f6rt\u00e9n\u0151 megolvaszt\u00e1s\u00e1val k\u00e9sz\u00fcl. Ez a m\u00f3dszer viszonylag gazdas\u00e1gos \u00e9s sz\u00e9les k\u00f6rben haszn\u00e1lj\u00e1k ipari alkalmaz\u00e1sokban. A szintetikus kvarc\u00fcveget viszont k\u00e9miai g\u0151zf\u00e1zis\u00fa lev\u00e1laszt\u00e1si (CVD) elj\u00e1r\u00e1sokkal \u00e1ll\u00edtj\u00e1k el\u0151. Ebben a m\u00f3dszerben szil\u00edcium-tetrakloridot (SiCl\u2084) haszn\u00e1lnak prekurzork\u00e9nt, m\u00edg a hidrog\u00e9n reduk\u00e1l\u00f3szerk\u00e9nt m\u0171k\u00f6dik. A k\u00e9miai reakci\u00f3 sor\u00e1n rendk\u00edv\u00fcl nagy tisztas\u00e1g\u00fa szil\u00edcium-dioxid keletkezik, amelynek eredm\u00e9nyek\u00e9nt kiv\u00e1l\u00f3 optikai \u00e9s szerkezeti egyenletess\u00e9g\u0171 kvarc\u00fcveg j\u00f6n l\u00e9tre.<\/p>\n\n\n\n

A cs\u00facskateg\u00f3ri\u00e1s f\u00e9lvezet\u0151 vagy optikai alkalmaz\u00e1sok eset\u00e9ben az anyag bels\u0151 egyenletess\u00e9ge kritikus fontoss\u00e1g\u00fa. A s\u0171r\u0171s\u00e9g egyenletess\u00e9g\u00e9nek jav\u00edt\u00e1sa \u00e9s az olvad\u00e1s sor\u00e1n keletkezett bels\u0151 bubor\u00e9kok elt\u00e1vol\u00edt\u00e1sa \u00e9rdek\u00e9ben a kvarc ingot gyakran v\u00e1kuumos k\u00f6rnyezetben homogeniz\u00e1l\u00f3 kezel\u00e9snek vetik al\u00e1. Ez a l\u00e9p\u00e9s jelent\u0151sen jav\u00edtja az anyag szerkezeti stabilit\u00e1s\u00e1t \u00e9s optikai min\u0151s\u00e9g\u00e9t.<\/p>\n\n\n\n

2. Wafer Blank gy\u00e1rt\u00e1s<\/h2>\n\n\n\n

Az ostyat\u00f6mb\u00f6t \u00e1ltal\u00e1ban henger alak\u00fa, egyenletes \u00e1tm\u00e9r\u0151j\u0171 kvarc-ingotb\u00f3l k\u00e9sz\u00edtik. K\u00e9t f\u0151 m\u00f3dszert haszn\u00e1lnak \u00e1ltal\u00e1ban ezen nyersek el\u0151\u00e1ll\u00edt\u00e1s\u00e1ra: a magf\u00far\u00e1st \u00e9s a h\u0151h\u00faz\u00e1st.<\/p>\n\n\n\n

A magf\u00far\u00e1st jellemz\u0151en nagyobb \u00e1tm\u00e9r\u0151j\u0171 osty\u00e1k el\u0151\u00e1ll\u00edt\u00e1s\u00e1ra alkalmazz\u00e1k. Egy sug\u00e1rir\u00e1ny\u00fa f\u00far\u00f3g\u00e9pet haszn\u00e1lnak a kvarc ingotb\u00f3l hengeres magok kinyer\u00e9s\u00e9re. Ez a m\u00f3dszer lehet\u0151v\u00e9 teszi a hat\u00e9kony gy\u00e1rt\u00e1st a pontos m\u00e9retellen\u0151rz\u00e9s fenntart\u00e1sa mellett.<\/p>\n\n\n\n

Kisebb m\u00e9ret\u0171 osty\u00e1k eset\u00e9ben gyakran alkalmaznak termikus h\u00faz\u00e1si m\u00f3dszert. Enn\u00e9l az elj\u00e1r\u00e1sn\u00e1l a kvarc ingot egy k\u00f6zepes frekvenci\u00e1j\u00fa kemenc\u00e9ben addig meleg\u00edtik, am\u00edg l\u00e1gy\u00edtott \u00e1llapotba nem ker\u00fcl. A megpuhult kvarcot ezut\u00e1n r\u00fad alak\u00fa nyersdarabokk\u00e1 h\u00fazz\u00e1k. Ez a m\u00f3dszer sz\u00e1mos el\u0151nnyel j\u00e1r. A m\u00e1sodik magas h\u0151m\u00e9rs\u00e9klet\u0171 olvaszt\u00e1si elj\u00e1r\u00e1s jav\u00edtja a bels\u0151 anyagmin\u0151s\u00e9get a bubor\u00e9kok, mikrohib\u00e1k \u00e9s szerkezeti szab\u00e1lytalans\u00e1gok cs\u00f6kkent\u00e9se r\u00e9v\u00e9n. Ezenk\u00edv\u00fcl a r\u00fad \u00e1tm\u00e9r\u0151je pontosan szab\u00e1lyozhat\u00f3 a h\u00faz\u00e1si sebess\u00e9g \u00e9s a szersz\u00e1mm\u00e9retek be\u00e1ll\u00edt\u00e1s\u00e1val, ami seg\u00edt cs\u00f6kkenteni az anyagpazarl\u00e1st \u00e9s elker\u00fclni a f\u00far\u00e1s okozta mechanikai fesz\u00fclts\u00e9get.<\/p>\n\n\n\n

3. Prec\u00edzi\u00f3s izz\u00edt\u00e1s<\/h2>\n\n\n\n

Az olvaszt\u00e1si, alak\u00edt\u00e1si \u00e9s h\u00faz\u00e1si f\u00e1zisok sor\u00e1n a kvarc\u00fcveg nem egyenletes leh\u0171l\u00e9snek van kit\u00e9ve, ami bels\u0151 h\u0151fesz\u00fclts\u00e9gek kialakul\u00e1s\u00e1hoz vezet. Ezek a fesz\u00fclts\u00e9gek befoly\u00e1solhatj\u00e1k a k\u00e9s\u0151bbi megmunk\u00e1l\u00e1si folyamatokat, \u00e9s cs\u00f6kkenthetik az ostya optikai egyenletess\u00e9g\u00e9t \u00e9s szerkezeti stabilit\u00e1s\u00e1t is.<\/p>\n\n\n\n

E bels\u0151 fesz\u00fclts\u00e9gek kik\u00fcsz\u00f6b\u00f6l\u00e9se \u00e9rdek\u00e9ben a kvarc-nyersanyagokat ellen\u0151rz\u00f6tt l\u00e1gy\u00edt\u00e1si folyamatnak kell al\u00e1vetni. Az izz\u00edt\u00e1si elj\u00e1r\u00e1s \u00e1ltal\u00e1ban n\u00e9gy szakaszb\u00f3l \u00e1ll: fokozatos meleg\u00edt\u00e9s, h\u0151m\u00e9rs\u00e9klet-tart\u00e1s, lass\u00fa h\u0171t\u00e9s \u00e9s v\u00e9gs\u0151 h\u0171t\u00e9s. A h\u0151m\u00e9rs\u00e9kleti \u00e9s id\u0151param\u00e9terek gondos szab\u00e1lyoz\u00e1sa biztos\u00edtja az anyagban l\u00e9v\u0151 marad\u00f3 fesz\u00fclts\u00e9gek hat\u00e9kony felold\u00e1s\u00e1t, ez\u00e1ltal jav\u00edtva a mechanikai stabilit\u00e1st \u00e9s a feldolgoz\u00e1s megb\u00edzhat\u00f3s\u00e1g\u00e1t.<\/p>\n\n\n\n

4. T\u00f6bbhuzalos szeletel\u00e9s<\/h2>\n\n\n\n

A kvarcszeletk ir\u00e1nti kereslet n\u00f6veked\u00e9s\u00e9vel a hagyom\u00e1nyos v\u00e1g\u00e1si m\u00f3dszerek el\u00e9gtelenn\u00e9 v\u00e1ltak a nagy\u00fczemi gy\u00e1rt\u00e1shoz. Emellett jelent\u0151s anyaghullad\u00e9kot is eredm\u00e9nyeznek.<\/p>\n\n\n\n

A modern kvarcszeletgy\u00e1rt\u00e1s \u00e1ltal\u00e1ban t\u00f6bbsz\u00e1las szeletel\u00e9si technol\u00f3gi\u00e1t alkalmaz. Ebben az elj\u00e1r\u00e1sban egyetlen kvarc r\u00fad vagy ingot egyidej\u0171leg t\u00f6bb osty\u00e1ra szeletelhet\u0151 egy nagy pontoss\u00e1g\u00fa dr\u00f3tf\u0171r\u00e9sz seg\u00edts\u00e9g\u00e9vel. Ez a technika jelent\u0151sen jav\u00edtja a gy\u00e1rt\u00e1s hat\u00e9konys\u00e1g\u00e1t, mik\u00f6zben minimaliz\u00e1lja az anyagvesztes\u00e9get \u00e9s biztos\u00edtja az egyenletes ostyavastags\u00e1got.<\/p>\n\n\n\n

5. Wafer alak\u00edt\u00e1s \u00e9s \u00e9lfeldolgoz\u00e1s<\/h2>\n\n\n\n

A szeletel\u00e9s ut\u00e1n a szeletet t\u00f6bb alak\u00edt\u00e1si folyamatnak vetik al\u00e1 a k\u00edv\u00e1nt geometria \u00e9s m\u00e9retpontoss\u00e1g el\u00e9r\u00e9se \u00e9rdek\u00e9ben. Ezek a folyamatok jellemz\u0151en a k\u00f6vetkez\u0151k: fel\u00fcletcsiszol\u00e1s, \u00e9lkerek\u00edt\u00e9s, orient\u00e1ci\u00f3s s\u00edk- vagy bev\u00e1g\u00e1sos megmunk\u00e1l\u00e1s \u00e9s ferd\u00edt\u00e9s.<\/p>\n\n\n\n

A szeletel\u00e9si nyomok nagy r\u00e9sz\u00e9nek elt\u00e1vol\u00edt\u00e1sa \u00e9s az ostyavastags\u00e1g szab\u00e1lyoz\u00e1sa \u00e9rdek\u00e9ben fel\u00fcletcsiszol\u00e1st v\u00e9geznek. E l\u00e9p\u00e9s sor\u00e1n elegend\u0151 megmunk\u00e1l\u00e1si tartal\u00e9kot tartanak fenn a k\u00e9s\u0151bbi prec\u00edzi\u00f3s megmunk\u00e1l\u00e1shoz.<\/p>\n\n\n\n

Mivel a kvarcszeletk\u00e9k \u00e1ltal\u00e1ban v\u00e9konyak \u00e9s t\u00f6r\u00e9kenyek, a stabil \u00e9s egyenletes csiszol\u00e1s biztos\u00edt\u00e1sa \u00e9rdek\u00e9ben az \u00e9lek lekerek\u00edt\u00e9se sor\u00e1n gyakran t\u00f6bb szeletet ideiglenesen \u00f6sszek\u00f6tnek. Az orient\u00e1ci\u00f3s lapokat vagy rov\u00e1tk\u00e1kat speci\u00e1lis megmunk\u00e1l\u00f3 berendez\u00e9sekkel vagy CNC megmunk\u00e1l\u00f3 k\u00f6zpontokkal adj\u00e1k hozz\u00e1, hogy az eszk\u00f6z gy\u00e1rt\u00e1sa sor\u00e1n igaz\u00edt\u00e1si referenci\u00e1kat biztos\u00edtsanak.<\/p>\n\n\n\n

A ferd\u00edt\u00e9s szint\u00e9n fontos l\u00e9p\u00e9s. Cs\u00f6kkenti az \u00e9lek fesz\u00fclts\u00e9gkoncentr\u00e1ci\u00f3j\u00e1t, \u00e9s megakad\u00e1lyozza a k\u00e9s\u0151bbi feldolgoz\u00e1s \u00e9s kezel\u00e9s sor\u00e1n fell\u00e9p\u0151 forg\u00e1csol\u00f3d\u00e1st vagy reped\u00e9st.<\/p>\n\n\n\n

6. Prec\u00edzi\u00f3s k\u00f6sz\u00f6r\u00fcl\u00e9s \u00e9s pol\u00edroz\u00e1s<\/h2>\n\n\n\n

A kvarc osty\u00e1k v\u00e9gs\u0151 fel\u00fcleti min\u0151s\u00e9g\u00e9t prec\u00edzi\u00f3s csiszol\u00e1si \u00e9s pol\u00edroz\u00e1si elj\u00e1r\u00e1sokkal \u00e9rik el. Ezeket a l\u00e9p\u00e9seket jellemz\u0151en k\u00e9toldali lappol\u00f3 \u00e9s pol\u00edroz\u00f3 g\u00e9pekkel v\u00e9gzik.<\/p>\n\n\n\n

A finomcsiszol\u00e1s elt\u00e1vol\u00edtja a marad\u00e9k fel\u00fcleti s\u00e9r\u00fclt r\u00e9teget \u00e9s jav\u00edtja a s\u00edkoss\u00e1got. A pol\u00edroz\u00e1s ezut\u00e1n rendk\u00edv\u00fcl kis \u00e9rdess\u00e9g\u0171, rendk\u00edv\u00fcl sima fel\u00fcletet eredm\u00e9nyez.<\/p>\n\n\n\n

A csiszol\u00e1s sor\u00e1n gyakran haszn\u00e1lt csiszol\u00f3anyagok k\u00f6z\u00e9 tartozik a szil\u00edciumkarbid \u00e9s a gy\u00e9m\u00e1nt r\u00e9szecsk\u00e9k. Pol\u00edroz\u00e1shoz jellemz\u0151en c\u00e9rium-oxid pol\u00edroz\u00f3 porokat alkalmaznak. Mivel a kvarckorongok rendk\u00edv\u00fcl magas fel\u00fcleti min\u0151s\u00e9get ig\u00e9nyelnek, a pol\u00edroz\u00f3 por \u00e1tlagos r\u00e9szecskem\u00e9rete (D50) \u00e1ltal\u00e1ban kevesebb, mint 2 mikrom\u00e9ter.<\/p>\n\n\n\n

A pol\u00edroz\u00e1s m\u00e1sik kritikus t\u00e9nyez\u0151je a pol\u00edroz\u00f3 iszap pH-\u00e9rt\u00e9ke. A megfelel\u0151 pH-tartom\u00e1ny fenntart\u00e1sa seg\u00edt optimaliz\u00e1lni a pol\u00edroz\u00f3 r\u00e9szecsk\u00e9k \u00e9s a kvarcfel\u00fclet k\u00f6z\u00f6tti k\u00e9miai-mechanikai k\u00f6lcs\u00f6nhat\u00e1st, \u00e9s v\u00e9gs\u0151 soron kiv\u00e1l\u00f3 fel\u00fcleti min\u0151s\u00e9get \u00e9s minim\u00e1lis hib\u00e1kat eredm\u00e9nyez.<\/p>\n\n\n\n

7. Tiszt\u00edt\u00e1s \u00e9s csomagol\u00e1s<\/h2>\n\n\n\n

A kvarcszeletgy\u00e1rt\u00e1s utols\u00f3 szakasza a tiszt\u00edt\u00e1s \u00e9s a csomagol\u00e1s, amelyet tisztaszobai k\u00f6rnyezetben kell elv\u00e9gezni.<\/p>\n\n\n\n

A megmunk\u00e1l\u00e1s sor\u00e1n k\u00fcl\u00f6nb\u00f6z\u0151 szennyez\u0151d\u00e9sek, p\u00e9ld\u00e1ul pol\u00edroz\u00e1si maradv\u00e1nyok, r\u00e9szecsk\u00e9k \u00e9s vegyszermaradv\u00e1nyok maradhatnak az ostya fel\u00fclet\u00e9n. E szennyez\u0151d\u00e9sek elt\u00e1vol\u00edt\u00e1s\u00e1ra \u00e1ltal\u00e1ban ultrahangos tiszt\u00edt\u00e1si elj\u00e1r\u00e1sokat alkalmaznak. Az \u00fcgyf\u00e9l ig\u00e9nyeit\u0151l \u00e9s a gy\u00e1rt\u00e1si folyamatokt\u00f3l f\u00fcgg\u0151en az ultrahangos tiszt\u00edt\u00e1s sor\u00e1n k\u00fcl\u00f6nb\u00f6z\u0151 tiszt\u00edt\u00f3szereket lehet bevezetni, bele\u00e9rtve a l\u00fagos oldatokat, savas oldatokat \u00e9s szerves old\u00f3szereket.<\/p>\n\n\n\n

A tiszt\u00edt\u00e1si m\u00f3dszert\u0151l f\u00fcggetlen\u00fcl az utols\u00f3 \u00f6bl\u00edt\u00e9si f\u00e1zisban mindig ultratiszta vizet haszn\u00e1lunk. A r\u00e9szecskeszennyez\u0151d\u00e9s megel\u0151z\u00e9se \u00e9rdek\u00e9ben a v\u00e9gs\u0151 \u00f6bl\u00edt\u00e9si, sz\u00e1r\u00edt\u00e1si \u00e9s csomagol\u00e1si l\u00e9p\u00e9seket \u00e1ltal\u00e1ban 100-as vagy ann\u00e1l jobb tisztas\u00e1gi oszt\u00e1ly\u00fa tisztaszobai k\u00f6rnyezetben v\u00e9gzik.<\/p>\n\n\n\n

K\u00f6vetkeztet\u00e9s<\/h2>\n\n\n\n

A kvarc\u00fcveg osty\u00e1k gy\u00e1rt\u00e1sa az anyagtudom\u00e1ny \u00e9s a prec\u00edzi\u00f3s m\u00e9rn\u00f6ki technol\u00f3gi\u00e1k \u00f6sszetett kombin\u00e1ci\u00f3j\u00e1t jelenti. A nyersanyagszint\u00e9zist\u0151l \u00e9s az ingot-el\u0151k\u00e9sz\u00edt\u00e9st\u0151l a szeletel\u00e9sig, alak\u00edt\u00e1sig, pol\u00edroz\u00e1sig \u00e9s tiszt\u00edt\u00e1sig minden egyes l\u00e9p\u00e9s d\u00f6nt\u0151 szerepet j\u00e1tszik a v\u00e9gs\u0151 ostyamin\u0151s\u00e9g meghat\u00e1roz\u00e1s\u00e1ban.<\/p>\n\n\n\n

A f\u00e9lvezet\u0151 eszk\u00f6z\u00f6k, optikai rendszerek \u00e9s fejlett \u00e9rz\u00e9kel\u00e9si technol\u00f3gi\u00e1k folyamatos fejl\u0151d\u00e9s\u00e9vel a kiv\u00e1l\u00f3 min\u0151s\u00e9g\u0171 kvarc szubsztr\u00e1tumok ir\u00e1nti kereslet tov\u00e1bb fog n\u0151ni. A feldolgoz\u00e1si technol\u00f3gia, a prec\u00edzi\u00f3s megmunk\u00e1l\u00e1s \u00e9s a szennyez\u0151d\u00e9s-ellen\u0151rz\u00e9s folyamatos fejleszt\u00e9se kulcsfontoss\u00e1g\u00fa t\u00e9nyez\u0151 marad a nagy teljes\u00edtm\u00e9ny\u0171 kvarcszelet term\u00e9kek k\u00f6vetkez\u0151 gener\u00e1ci\u00f3j\u00e1nak lehet\u0151v\u00e9 t\u00e9tel\u00e9ben.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Quartz glass wafers are high-purity silicon dioxide (SiO\u2082) substrates widely used in semiconductor fabrication, optical systems, and precision electronic devices. Owing to their excellent thermal stability, extremely low thermal expansion coefficient, strong chemical resistance, and high optical transmission, quartz glass wafers play an important role in advanced manufacturing fields such as micro-electromechanical systems (MEMS), CMOS […]<\/p>\n","protected":false},"author":1,"featured_media":2488,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"footnotes":""},"categories":[1],"tags":[506,511,519,518,508,507,505,513,515,509,510,516,514,517,512],"class_list":["post-2499","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-industry-news","tag-fused-silica-wafer","tag-high-purity-quartz-glass","tag-mems-quartz-substrate","tag-multi-wire-cutting-quartz-wafer","tag-optical-quartz-substrate","tag-precision-quartz-machining","tag-quartz-glass-wafer","tag-quartz-wafer-annealing","tag-quartz-wafer-cleaning-process","tag-quartz-wafer-manufacturing","tag-quartz-wafer-polishing","tag-quartz-wafer-processing","tag-quartz-wafer-slicing","tag-semiconductor-quartz-wafer","tag-silicon-dioxide-wafer"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/2499","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2499"}],"version-history":[{"count":1,"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/2499\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":2501,"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/2499\/revisions\/2501"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2488"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2499"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=2499"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/hu\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=2499"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}