\n| Modulationseffizienz<\/td>\n | M\u00e4\u00dfig<\/td>\n | Hoch (V\u03c0 ~ 1 V erreichbar)<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n
\nMa\u00dfgeschneiderte technische L\u00f6sungen<\/h1>\nKristallorientierung w\u00e4hlbar zwischen X-, Y- und Z-Schnitt-Konfigurationen<\/p>\n D\u00fcnnschichtdicke im Bereich von 300 nm bis 1000 nm<\/p>\n Einstellbare Dicke des vergrabenen Oxids zur Abstimmung der optischen Einschr\u00e4nkung<\/p>\n Zu den Substratoptionen geh\u00f6ren Silizium, Quarz und Saphir<\/p>\n Optionale MgO-Dotierung zur Verbesserung der optischen Schadensschwelle<\/p>\n
\n![\"\"](\"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Thin-Film-Lithium-Niobate-on-Insulator-LNOI-Wafer-Platform-for-Integrated-Photonics-2-300x300.png\") Qualit\u00e4tssicherung und Messtechnik<\/h1>\n
Jeder Wafer durchl\u00e4uft eine strenge Pr\u00fcfung nach Halbleiter-Standards:<\/p>\n Messung optischer Verluste in Telekommunikationswellenl\u00e4ngenbereichen<\/p>\n Rasterkraftmikroskopie zur Beurteilung der Oberfl\u00e4chenrauheit<\/p>\n Infrarotpr\u00fcfung zur \u00dcberpr\u00fcfung der Unversehrtheit der Klebefl\u00e4che<\/p>\n Darstellung der Dicke und Gleichm\u00e4\u00dfigkeit \u00fcber den gesamten Wafer<\/p>\n Analyse der Wafer-Ebenheit und der Spannungsverteilung<\/p>\n
\nTechnische und fertigungstechnische Kompetenzen<\/h1>\nZMSH<\/span><\/span> bietet umfassende LNOI-Wafer-Engineering-L\u00f6sungen an, darunter Materialdesign, Entwicklung von Wafer-Bonding-Verfahren, Unterst\u00fctzung bei der Herstellung photonischer Bauelemente, Nanofabrikationsverfahren (EBL, IBE) sowie Dienstleistungen zur optischen Charakterisierung.<\/p>\nDie Produktionskapazit\u00e4ten decken sowohl die Prototypenfertigung im Forschungs- und Entwicklungsma\u00dfstab als auch die Fertigung kleiner bis mittlerer Losgr\u00f6\u00dfen ab, wobei eine stabile 6-Zoll-Produktion gew\u00e4hrleistet ist und die Entwicklung von 8-Zoll-LNOI-Plattformen vorangetrieben wird.<\/p>\n
\nH\u00e4ufig gestellte Fragen<\/h1>\n1. Wof\u00fcr wird Lithium-Niobat-D\u00fcnnschicht verwendet?
Es findet Anwendung in der integrierten Photonik, der optischen Kommunikation, der Quantenphotonik und bei nichtlinearen optischen Bauelementen.<\/p>\n 2. Wie dick ist eine Lithium-Niobat-D\u00fcnnschicht in der Regel?
Die Schichtdicke liegt je nach den Anforderungen des Bauteils in der Regel zwischen 300 nm und 1000 nm.<\/p>\n 3. Welche Vorteile bietet LNOI gegen\u00fcber Lithium-Niobat in loser Form?
LNOI erm\u00f6glicht geringere optische Verluste, eine h\u00f6here Integrationsdichte und Kompatibilit\u00e4t mit Silizium-Photonik-Plattformen.<\/p>\n 4. Ist LNOI mit Siliziumphotonik kompatibel?
Ja, LNOI l\u00e4sst sich in photonische Plattformen aus Silizium und Siliziumnitrid integrieren.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":" D\u00fcnnschicht-LNOI-Wafer (Lithium-Niobat auf Isolator) sind speziell entwickelte Substrate f\u00fcr integrierte photonische und elektrooptische Bauelemente.<\/p>\n Die Plattform besteht aus einer D\u00fcnnschicht aus einkristallinem Lithiumniobat, die auf eine vergrabene Oxidschicht (SiO\u2082) aufgebracht ist und von einem Silizium- oder isolierenden Tr\u00e4gerwafer getragen wird.<\/p>\n Diese Struktur erm\u00f6glicht eine starke optische Einschr\u00e4nkung, geringere Ausbreitungsverluste und eine hohe elektrooptische Effizienz, was sie zu einer der wichtigsten Materialplattformen f\u00fcr die moderne integrierte Photonik macht.<\/p>","protected":false},"featured_media":2887,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center 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Das Konzept des D\u00fcnnschicht-Lithiumniobats (TFLN)<\/h1>\n![\"\"](\"https:\/\/www.fuyao-quartz.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Thin-Film-Lithium-Niobate-on-Insulator-LNOI-Wafer-Platform-for-Integrated-Photonics-3-300x300.png\")
Wesentliche Merkmale<\/h1>\n