JGS1 JGS2 Optische Quarzwafer 2 bis 12 Zoll

JGS1- und JGS2-Quarzwafer sind hochreine Quarzsubstrate, die hauptsächlich aus Siliziumdioxid (SiO₂) bestehen. Diese Quarzwafer in optischer Qualität finden breite Anwendung in der Halbleiterherstellung, in ultravioletten optischen Systemen, Lasergeräten und faseroptischen Kommunikationsgeräten.

Produktübersicht

JGS1- und JGS2-Quarzwafer sind hochreine Quarzsubstrate, die hauptsächlich aus Siliziumdioxid (SiO₂) bestehen. Diese Quarzwafer in optischer Qualität finden breite Anwendung in der Halbleiterherstellung, in ultravioletten optischen Systemen, Lasergeräten und faseroptischen Kommunikationsgeräten.jgs1 jgs2 Quarzglasscheiben optischer Qualität 2 bis 12 Zoll

JGS1-Quarz-Wafer werden im Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung hergestellt. Dieses Herstellungsverfahren bietet einen extrem niedrigen Gehalt an metallischen Verunreinigungen und einen sehr geringen Hydroxylgehalt, was eine hervorragende Übertragungsleistung im tiefen Ultraviolettbereich ermöglicht.

JGS2-Quarzscheiben werden in der Regel nach dem Wasserstoff-Sauerstoff-Flammenschmelzverfahren hergestellt. Im Vergleich zu JGS1 enthält JGS2 einen höheren Hydroxylgehalt, bietet aber eine stabile optische Leistung über das gesamte Spektrum von Ultraviolett bis zum nahen Infrarot und ist gleichzeitig ein kostengünstigeres Herstellungsverfahren.

Quarzscheiben sind in Durchmessern von 2 Zoll bis 12 Zoll erhältlich und können je nach Dicke, Anforderungen an die Oberflächenpolitur und optischen Spezifikationen angepasst werden.

JGS1 und JGS2 Quarzscheiben im Vergleich

Eigentum JGS1 Quarz JGS2 Quarz
Herstellungsverfahren Chemische Gasphasenabscheidung Wasserstoff-Sauerstoff-Flamme Fusion
Optischer Übertragungsbereich 185 nm bis 2500 nm 220 nm bis 2500 nm
Durchlässigkeit >85 Prozent bei 185 nm (10 mm Dicke) >80 Prozent bei 220 nm (10 mm Dicke)
Gehalt an metallischen Verunreinigungen Ungefähr 0,1 ppm Ungefähr 1 ppm
Hydroxylgehalt Weniger als 5 ppm 30 bis 50 ppm
Interne Defekte Sehr wenige Blasen und Schlieren Mögliche kleine Blasen oder körnige Strukturen
Optische Homogenität Sehr hoch Gut
Thermische Stabilität Gut Höhere thermische Stabilität

Physikalische und mechanische Eigenschaften

Eigentum Wert
Dichte 2,2 g/cm³
Mohs-Härte 6 bis 7
Druckfestigkeit 1100 MPa
Zugfestigkeit 50 MPa
Biegefestigkeit 65 MPa
Torsionsfestigkeit 30 MPa
Elastizitätsmodul 7,5 × 10⁴ MPa
Querkontraktionszahl 0.17

Elektrische Eigenschaften

Eigentum Wert
Dielektrizitätskonstante (10 GHz) 3.74
Verlustfaktor (10 GHz) 0.0002
Dielektrische Festigkeit 3,7 × 10⁷ V/m
Widerstandswert bei 20°C 1 × 10²⁰ Ω-m
Widerstandswert bei 1000°C 1 × 10⁸ Ω-m

Thermische Eigenschaften

Eigentum Wert
Dehnungspunkt 1080°C
Glühpunkt 1180°C
Erweichungspunkt 1630°C
Wärmeleitfähigkeit (20°C) 1,4 W/m-K
Spezifische Wärme (20°C) 670 J/kg-K
Wärmeausdehnungskoeffizient (30°C bis 600°C) 5.5 × 10-⁷ /°C

Typische Anwendungen

Anwendungsbereich Beschreibung
Halbleiterlithographie Optische Komponenten und Wafer-Verarbeitungsanlagen
Faseroptische Kommunikation Optische Stecker, optische Fenster, Isolatorkomponenten
UV-Laser-Systeme Excimer-Laserfenster und optische Linsen
Industrielle UV-Verarbeitung UV-Sterilisationsgeräte und Quecksilberhochdrucklampen
Optische Instrumente Linsen, Prismen, Spiegel und optische Substrate

FAQ

jgs1 jgs2 Quarzglasscheiben optischer Qualität 2 bis 12 Zoll1 Unterschied zwischen JGS1- und JGS2-Quarzplättchen ?

JGS1-Quarzwafer bieten eine höhere Durchlässigkeit für tiefes Ultraviolett, da sie extrem wenig metallische Verunreinigungen und Hydroxyl enthalten. JGS2-Quarzwafer bieten eine stabile Leistung von Ultraviolett bis zum nahen Infrarot und sind im Allgemeinen kostengünstiger für optische Standardanwendungen.

2 Typische Anwendungen von JGS1-Quarzwafern ?

JGS1-Quarz-Wafer werden häufig in Tief-Ultraviolett-Lithografiesystemen, optischen Komponenten für Excimer-Laser und hochpräzisen ultravioletten optischen Geräten verwendet.

3 Typische Anwendungen von JGS2-Quarzscheiben ?

JGS2-Quarzwafer werden häufig in faseroptischen Kommunikationsgeräten, Ultraviolett-Verarbeitungsgeräten und allgemeinen optischen Komponenten verwendet, die eine stabile UV- bis Nahinfrarot-Übertragung erfordern.

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