BF33 / BOROFLOAT 33 Glaswafer - Hochleistungs-Borosilikat-Wafer

FUYAO QUARTZ ist auf hochreine BF33 / BOROFLOAT 33-Glaswafer spezialisiert, ein hochwertiges Borosilikatsubstrat, das häufig in Halbleiter-, MEMS-, optischen und mikrofluidischen Anwendungen eingesetzt wird. Die im SCHOTT Microfloat-Verfahren hergestellten BF33-Wafer zeichnen sich durch eine geringe Wärmeausdehnung (~3,3 ppm/°C), hohe optische Klarheit, Temperaturwechselbeständigkeit und chemische Inertheit aus und eignen sich daher ideal für die Präzisionsverbindung mit Silizium und andere fortschrittliche Prozesse.

FUYAO QUARTZ ist auf hochreine BF33 / BOROFLOAT 33-Glaswafer spezialisiert, ein hochwertiges Borosilikatsubstrat, das häufig in Halbleiter-, MEMS-, optischen und mikrofluidischen Anwendungen eingesetzt wird. Die im SCHOTT Microfloat-Verfahren hergestellten BF33-Wafer zeichnen sich durch eine geringe Wärmeausdehnung (~3,3 ppm/°C), hohe optische Klarheit, Temperaturwechselbeständigkeit und chemische Inertheit aus und eignen sich daher ideal für die Präzisionsverbindung mit Silizium und andere fortschrittliche Prozesse.

BF33-Wafer finden breite Anwendung in der Fotolithografie, beim anodischen Bonden, in Lab-on-Chip-Geräten, in der Laseroptik und in optischen Hochtemperatursystemen und bieten außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit unter anspruchsvollen industriellen und wissenschaftlichen Bedingungen.

Materialzusammensetzung und Eigenschaften

Eigentum Spezifikation
SiO₂-Gehalt >80%
B₂O₃ Inhalt Optimiert für geringe thermische Ausdehnung
CTE (20-300°C) ~3.3 × 10-⁶ /K
Dehnungspunkt 520°C
Glühpunkt 560°C
Erweichungspunkt 820°C
Widerstandsfähigkeit gegen thermische Schocks Ausgezeichnet
Optische Übertragung >90% (UV-NIR)
Oberflächenbehandlung DSP/SSP, Ra <1 nm
Chemische Beständigkeit ISO Klasse 1 Wasser und Säure, Klasse 2 Lauge
Härte ~480 HK

Die wichtigsten Vorteile:

  • Thermische Kompatibilität mit Silizium: Ideal für anodische Verklebung ohne Spannung oder Verformung.

  • Hohe optische Klarheit: UV-NIR-Transparenz für Laser, Photonik und Sensoren.

  • Chemische Beständigkeit: Beständig gegen Säuren, Basen und Lösungsmittel für Reinraumprozesse.

  • Mechanische Festigkeit: Hohe Abriebfestigkeit, ideal für die Handhabung von Halbleitern und MEMS-Geräten.

  • Präzise Oberfläche: Polierte Wafer mit niedrigem TTV-Wert für präzise Mikrofertigung und optische Ausrichtung.

Primäre Anwendungen

  1. Halbleiter & MEMS: Trägerwafer, Waferausdünnung, anodisches Bonden, mikrofluidische Geräte.

  2. Optische und photonische Systeme: Laseroptiken, Spiegel, Filter, optische Hochtemperaturfenster.

  3. Analytische und biomedizinische Instrumente: Biochips, diagnostische Platten, Titrationssysteme.

  4. Industrielle und Hochtemperatur-Umgebungen: Ofenfenster, Schaugläser, Flutlichtabdeckungen.

  5. Energie- und Umwelttechnik: PV-Substrate, mikrofluidische Sensoren.

  6. Luft- und Raumfahrt & Verteidigung: Optische Tafeln, Sensorfenster, weltraumtaugliche Optiken.

Oberfläche und Herstellungsoptionen

  • Polieren: Doppelseitig poliert (DSP) oder einseitig poliert (SSP) mit Ra <1 nm.

  • Dicke und Durchmesser: Je nach Anwendung anpassbar.

  • Beschichtungen: Antireflexions- (AR), Reflexions- (HR) und wellenlängenspezifische Beschichtungen.

  • Toleranzen: Enge TTV (<10 µm), Scratch/Dig 60/40 oder höher auf Anfrage.

Warum sollten Sie sich für unsere BF33-Wafer entscheiden?

  • Jahrzehntelange Erfahrung in der Herstellung von optischem und Halbleiterglas.

  • Strenge Qualitätskontrolle für gleichbleibende thermische, chemische und optische Eigenschaften.

  • Flexible Anpassung an die Anforderungen von Industrie, Wissenschaft und Forschung.

  • Umfassende technische Unterstützung und globales Liefernetzwerk.

Häufig gestellte Fragen (FAQ)

Q1: Was ist BF33-Glas?
A1: BF33, auch BOROFLOAT 33 genannt, ist ein hochwertiges Borosilikatglas-Wafer mit geringer Wärmeausdehnung (~3,3 ppm/°C), ausgezeichneter chemischer Beständigkeit und hoher optischer Transparenz, ideal für Halbleiter-, MEMS- und optische Anwendungen.

F2: Wie ist BF33 im Vergleich zu herkömmlichem Glas?
A2: BF33 hat einen höheren Siliziumdioxidgehalt (>80%) und Boroxid, wodurch es eine geringe thermische Ausdehnung, chemische Beständigkeit, hervorragende UV/NIR-Durchlässigkeit und mechanische Festigkeit aufweist und Kalk-Natron-Glas bei anspruchsvollen industriellen Anwendungen übertrifft.

F3: Können BF33-Wafer poliert werden?
A3: Ja. FUYAO QUARTZ bietet DSP- und SSP-Wafer mit einer Oberflächenrauheit im Sub-Nanometerbereich (<1 nm Ra) und einer niedrigen TTV (<10 µm), die für Wafer-Bonding, Fotolithografie und hochpräzise optische Systeme unerlässlich sind.

F4: Welche Branchen verwenden BF33-Wafer?
A4: Halbleiterherstellung, MEMS-Geräte, Mikrofluidik, Photonik, Laseroptik, Analyseinstrumente, biomedizinische Geräte, Luft- und Raumfahrt, Energie und Umweltüberwachung.

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